1月16日消息,苹果iphone全面屏设计的最大挑战在于屏下face id技术。face id依赖于深感摄像头投射并分析大量点来捕捉精准人脸数据。目前,红外摄像头和点阵投影器等核心组件难以完全隐藏于屏幕下方,导致苹果不得不采用“药丸屏”方案。
然而,最新报道显示,苹果已获得一项屏下Face ID专利,攻克了这一技术难题。
屏下Face ID的核心在于提升红外光的透光率。虽然红外光能穿透屏幕,但透射率极低,直接放置于面板下方会显著降低识别速度和可靠性。
苹果的专利方案巧妙地解决了这个问题。通过移除部分子像素,让红外光顺利穿过OLED面板。由于每个像素由红、绿、蓝三个子像素组成,苹果移除的是相同颜色的相邻子像素,而不会影响用户视觉体验,因为系统会利用相邻子像素的颜色混合来补偿缺失部分,确保显示效果的完整性。
该方案预计最早将于2026年应用于iPhone 18系列,届时,iPhone将采用单挖孔屏设计,彻底告别“药丸屏”。
以上就是消灭药丸屏!苹果屏下Face ID专利曝光的详细内容,更多请关注知识资源分享宝库其它相关文章!
版权声明
本站内容来源于互联网搬运,
仅限用于小范围内传播学习,请在下载后24小时内删除,
如果有侵权内容、不妥之处,请第一时间联系我们删除。敬请谅解!
E-mail:dpw1001@163.com
发表评论